キヤノンは、同社が開発を進めてきたナノインプリント（NIL）技術を利用した半導体製造装置である「FPA-1200NZ2C」を発売しました。

Nikkei Asia及び日本経済新聞が、TSMCが日本に建設する計画の第2工場にて、6nmプロセスの製造を計画していることを報じています。